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45纳米 文章 进入45纳米技术社区

英特尔停产部分芯片 向45纳米技术转移

  •    中国台湾笔记本制造商提供的消息称,计算机微处理器制造商英特尔最近向笔记本厂商发布通知透露,公司将逐步淘汰迅驰(Centrino)笔记本平台(Napa和Napa Refresh)中老时的处理器。  通知称,英特尔计划明年1月份发布一个产品中止通知,在通知中将包括它的 Napa Refresh 笔记本平台中的T7600、T7400、T7200、T5600和T5500微处理器,公司计划明年3月份将停止接受这些芯片的订单。&nb
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基辛格畅谈英特尔与快速发展的行业高科技

  • 英特尔公司高级副总裁兼数字企业事业部总经理帕特•基辛格,在英特尔信息技术峰会上介绍了英特尔与整个行业合作在处理器、相关技术以及Tick-tock设计步伐方面的最新情况,包括英特尔即将推出的 45 纳米产品的最新信息。同时他还介绍了行业内近期在节能计算、虚拟化以及大量软件开发方面的一些举措和近期推出的一些新的系统架构计划,从USB互联技术到公司即将推出的用于英特尔®博锐™技术台式机的无铅产品。 基辛格指出:“英特尔的发展模式和设计步伐是一种前瞻性的、经济高
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45纳米后,摩尔定律还能坚持多久?

  • 自1970年发明MOS工艺及73年推出CMOS工艺以来,至今还没有发现可替代它的工艺,足见CMOS工艺的经济合理性。因此,至今硅基材料的应用仍在继续延伸。然而,在晶体管工艺制造中采用二氧化硅作为栅极材料,实质上已逼近极限。如65纳米工艺时,二氧化硅栅极的厚度己降低至1.2纳米,约5个硅原子层厚度,如果再继续缩小,将导致漏电及功耗急剧上升。 晶体管工艺技术的又一个里程碑Intel共同创始人Gordon Moore说,采用“high-k”和金属栅电极材料,标志着从推出多晶硅栅MOS晶体管以来,晶体管技术的一
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45纳米芯片大战结局: 松下IBM或击败英特尔

  • 关注芯片领域四核之战的朋友可能不会陌生,英特尔不断以45纳米芯片重磅新闻轰炸AMD,宣称自己的45纳米芯片将第一个上市。然而现实可能出乎业界的预料,第一个将45纳米芯片搬上货架的可能既不是英特尔,也不是AMD,而是松下或IBM。   据国外媒体报道,以45纳米竞赛“王者”自居的英特尔,可能对上述说法不以为然,它会说英特尔已在内部演示了45纳米芯片,代号为“Penryn”,根据计划今年底该芯片将上市,而AMD的45纳米芯片可能要到2008年才能上市。然而业界所关注的并非产品演示,就真正供
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台积电将为AMD代工制造45纳米工艺芯片

  •  台积电CEO蔡力行(Rick Tsai)向分析人士表示,台积电将在2008年为尚未公布名字的客户制造处理器。   他说,我们预计将于明年下半年开始制造处理器,这一交易将对台积电的收入做出重大贡献。   蔡力行没有披露更多细节,但表示,为了为该客户制造处理器,台积电正在投入巨资部署高阻抗金属栅极技术。高阻抗金属栅极技术是45纳米工艺的关键部分,它能够大幅度减少电流泄露。   台积电已经在为威盛制造处理器,但威盛的处理器采用的是较为陈旧的工艺,在近期内不大可能要求使用高阻抗金属栅极技术。这就使得A
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应用材料推出45纳米光掩膜刻蚀技术设备

  • 近日,应用材料公司宣布推出先进的AppliedCenturaTetraTMIII掩膜刻蚀设备,它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要的纳米制造技术系统。TetraIII通过控制石英掩膜把刻槽深度控制在10Å以内,同时把临界尺寸损失减小到10nm以下,使客户可以在最重要的器件层交替使用相移掩膜和强有力的光学临近修正技术。该系统为基于铬、石英、氮氧硅钼等多种新材料的下一代光刻技术应用提供无差错、高产能的刻蚀工艺。      
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应用材料公司推出关键性45纳米光掩膜刻蚀技术设备

  •   近日,应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蚀设备,它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要的纳米制造技术系统。Tetra III通过控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以内,同时把临界尺寸损失减小到10nm以下,使客户可以在最重要的器件层交替使用相移掩膜和强有力的光学临近修正技术。该系统为基于铬、石英、氮氧硅钼等多种新材料的下一代光刻技术应用提供无差错、高产能的刻蚀工艺。   应用材料公司资深副总裁,刻蚀、清洁、前道
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台积电9月量产45纳米产品 率台湾代工厂之先

  •   4月10日消息,据台湾媒体报道,全球最大晶圆代工厂台积电周一表示,将于今年9月开始量产45纳米产品,成为台湾首家迈入45纳米量产的晶圆厂。   台积电总经理兼总执行长蔡力行表示:“为因应客户未来的需求,公司迅速建构完成了45纳米设计生态环境,并结集完备的设计支援服务,协助客户将来能快速导入45纳米产品。”   目前,全球消费电子产业均朝更为精巧且高效能设计发展,台积电为提高产业竞争力,也一路由90纳米、65纳米至最新的45纳米先进工艺迈进。
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英特尔今年建成三家45纳米多核厂

  •   英特尔数字企业集团副总裁兼服务器平台事业部总经理Kirk Skaugem称,英特尔三家45纳米的工厂将在今年完工,这将有助于英特尔扩大多核处理器产能和降低产品价格。   据介绍,这三家工厂分别位于以色列,美国俄勒冈州和美国亚利桑那州。Kirk Skaugem对它们的即将建成充满期待,认为它必将巩固英特尔在多核处理器领域的竞争。   “对手要挑战我们在微架构的领先地位是非常困难的,所有优势的获得都要投入数十亿美元的资金。要搞多核竞争就要有产能,有产能才有价格优势,也就要有大的工厂,英特尔在这方面非常
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英特尔展示45纳米处理器 下半年上市销售

  •     据国外媒体报道,英特尔公司已开始生产全球第一个45纳米工艺处理器,英特尔公司计划在今年下半年开始销售新处理器。      在英特尔硅谷总部的演示会上,公司展示了“Penryn”处理器的开发型号。英特尔演示了一个低电压版的双内核笔记本处理器,还有双内核和四内核版的台式机和服务器处理器。英特尔还将开发10种45纳米型号。     芯片制造商宣称,Penryn是40年来半导体
  • 关键字: 45纳米  处理器  英特尔  

英特尔展示45纳米处理器 下半年上市销售

  • 据国外媒体报道,英特尔公司已开始生产全球第一个45纳米工艺处理器,英特尔公司计划在今年下半年开始销售新处理器。      在英特尔硅谷总部的演示会上,公司展示了“Penryn”处理器的开发型号。英特尔演示了一个低电压版的双内核笔记本处理器,还有双内核和四内核版的台式机和服务器处理器。英特尔还将开发10种45纳米型号。     芯片制造商宣称,Penryn是40年来半导体芯片的最伟大突破,因为它可以让英特尔继续使用当前
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45纳米介绍

1906年,世界第一枚电子器件划时代而生。此后百年间,随着晶体管与集成电路的成功开发,人类开始步入速度惊人的芯片时代。   我们知道,能够带来突破性性能与尺寸的新体系结构,需要在更小的体积内放入更多的晶体管数目,需要更高级的芯片制程工艺。   从第一颗处理器到90纳米处理器,乃至65纳米处理器都是如此。英特尔把这种以两年为周期的芯片与微体系结构快速发展步调称为“Tick-tock”战略。当硅 [ 查看详细 ]

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