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IBM将与法国LETI联手开发22nm制程技术

  •   IBM与法国原子能署下属的电子资讯科技实验室(CEA/LETI)近日宣布将合作研究开发半导体与纳米电子相关技术。双方将就22nm制程工艺有关的高级材料,设备及制造工艺方面进行合作,合约期为5年。   研究工作将在IBM公司在东Fishkill的300mm工厂,Nanotech/意法半导体公司在法国Crolles的工厂以及CEA/LETI位于Grenoble的300mm设施中展开。而来自CEA/LETI的一支研究团队则将在Albany Nanotech公司开展这项研究工作。CEA/LETI将不会加入I
  • 关键字: IBM  CMOS  22nm  

IC业在拐点生存

  • 分析了IC业的众多特点,例如从90nm向65nm、45nm、32nm、22nm等拐点演进的困难,以及ESL、DFM拐点,制造是设计的拐点,FPGA与ASIC之间的拐点等热门问题。
  • 关键字: EDA  65nm  45nm  22nm  光刻  处理器  FPGA  ASIC  200808  
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22nm介绍

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