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英特尔拚10nm,与台积电先进制程对比

  •   全球电脑中央处理器龙头英特尔(Intel)将于下个月举行年度开发者大会(IDF),市场传出,英特尔可能会揭露10奈米制程进度,以及投入代工领域的规画,与台积电展开PK赛。   英特尔、三星、台积电半导体三雄持续比拚先进制程,继去年14/16奈米竞赛后,下一阶段重点在于明年登场的10奈米,以及接续上阵的7奈米和5奈米制程进度。   过去因台积和三星争抢苹果、高通、联发科等处理器代工订单,对外释出的10奈米进度较明确,两家厂商都锁定今年底导入客户设计定案,明年第1季量产。过去英特尔较少对外说明10奈米
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外资看淡10nm需求 IC厂商更想等待7nm

  •   美系外资发表研究报告指出,台积电今年下半年的成长虽将强劲,但明年却可能趋缓(营收大概只会成长4%),因为iPhone 7处理器订单已经全部包给台积电、并无再进步的余地,而其10nm制程的需求也缺少进一步成长的空间。根据观察,除了苹果以外,IC设计公司大都比较想等2018年7nm制程出炉再说。   台积电对智能手机的营运曝险度超过60%,但智能机明年成长只能持平,台积电想要营收大幅成长、恐怕有些困难。另外,高通骁龙600、骁龙800芯片组以及供应给iPhone的基带都会转单给三星电子以10/14nm制
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IDF2016:大谈10nm工艺及Intel代工之魂的觉醒

  •   Intel正在筹划今年的另一场开发者信息技术峰会(Intel Developer Forum),将于8月份正式召开,本次大会的议题基本上已经确定为“Building Winning Products with Intel Advanced Technologies and Custom Foundry Platforms”,说明Intel有意要谈论自己最先进的芯片技术,其中必然涵盖10nm工艺制程。   从IDF的介绍来看,届时Intel的高级院士Mark Bohr和副总裁Z
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工艺超10nm后,器件性能还会继续提高

  •   在“2016 Symposia on VLSI Technology”(6月13日~17日于美国檀香山举办)上,继“Plenary Session”(全体会议)之后,在Session T2“Technology Highlighted Session”上,也涌现出了许多关于10nm工艺技术的论文。在本届Symposium采纳的86篇论文中,有12篇被选为焦点论文,其中4篇在 Session T2的Highlighted Sessi
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ARM发布针对10nm工艺优化的CPU内核和GPU内核

  •   英国ARM公司于2016年5月30日发布了针对10nm工艺进行了优化的高端CPU内核“ARM Cortex-A73”和高端GPU内核“ARM Mali-G71”。这些内核都将集成在2017年投放市场的移动产品的SoC中,帮助提供4K视频、VR和AR。   Cortex-A73采用具有64位指令的ARMv8-A架构,是2015年2月发布的现有高端CPU内核“Cortex-A72”的高端产品。与利用16nm工艺封装的Cortex-A
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三星年内启动第二代10nm芯片制造

  •   三星半导体高管本周前往硅谷,试图吸引更多芯片设计公司利用三星的芯片制造服务。   三星的芯片工厂生产自主品牌的芯片,但该公司也在积极寻求来自第三方的业务,该公司的客户包括苹果和高通等。   本周,三星在圣何塞办公室举办了邀请活动,试图向当前客户和潜在客户展示,该公司将在下一代芯片制造技术中取得领先,正如该公司当前的14纳米芯片制造工艺一样。   三星半导体高级总监凯文·洛(Kevin Low)表示:“我们认为,我们将再次领先。这并不是一次性的成功。”   
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台积电10nm制程2016量产 7纳米制程2017年上半试产

  •   台积电公布2015年年报,并发布一封致股东报告书。其中,董事长张忠谋于文中表示,2015年台积电完成10纳米的技术验证,亦符合目标进度预计于2016年进入量产,同时,7纳米技术也已进入全面开发阶段,按进度预计于2017年上半年进入试产。   据指出,7纳米技术与10纳米技术有超过95%以上的共用设备能相互使用,进而大幅改善芯片密度、降低功耗并且维持相同的芯片效能。此外,台积电正以密集的进阶开发来进行5纳米技术的定义。   回顾2015年,台积电晶圆出货量与2014年相较增加6.1%,达876.3万
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三星成为全球首家量产10nm级内存的公司

  •   三星电子上月宣布,已经在全球范围内第一家实现了10nm级别工艺DDR4 DRAM内存颗粒的量产,也是继2014年首个量产20nm DDR3内存颗粒后的又一壮举。三星没有披露新工艺的具体数字,只是模糊地称之为10nm级别或者1xnm,而根据韩国媒体此前报道,三星用的是18nm,继续领先SK海力士、美光等对手。   三星表示,新工艺克服了DRAM行业中的大量技术挑战,包括独有的单元设计技术、四重曝光技术(QPT)、超薄介质层沉积技术等等,而且依然使用了已有的氟化氩沉浸式光刻工艺,并未启用昂贵且不成熟的E
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台积电斥巨资购新设备和研发10nm 只为苹果A10芯片?

  •   此前供应链曝光的消息显示,台积电将会成为苹果iPhone 7 A10 芯片的唯一生产商。而台积电最近好像不仅忙于完成今年的苹果订单,同时也在未来能够拿到更多苹果A 系列芯片订单而做准备。   台湾媒体的最新消息称,根据台湾证券交易所的文件,台积电最近投资 8081 万美元从台湾 M+W High Tech Projects 和 United Integrated Services 购进了新的设施设备。除此之外,台积电还为 2016 年预留了 90-100 亿美元的预算,以用于发展旗下新的10 纳米制
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英特尔确认10nm制程产品将于2017年下半正式问世

  •   英特尔(Intel)于上个月在其官网上的一项招聘公告中暗示,该公司10纳米制程芯片将自公告起约两年内开始量产。然该公司随即撤除相关内容,强调资讯有所错误,但同时也证实英特尔首款10纳米制程产品将于2017年下半正式问世。   尽管英特尔在个人电脑(PC)处理器市场仍保有一定优势,然该公司必须持续推陈出新,研发更创新的新芯片产品,持续在效能、续航力及新功能方面进展。   虽然目前全球PC市场在智能手机及平板电脑的挤压下正持续萎缩中,但英特尔仍必须投入更多精力、致力于改良处理器的效能,以提升新款PC的
  • 关键字: 英特尔  10nm  

英特尔确认10nm制程将自2017年下半正式启动

  •   英特尔(Intel)于上个月在其官网上的一项招聘公告中暗示,该公司10奈米制程晶片将自公告起约两年内开始量产。然该公司随即撤除相关内容,强调资讯有所错误,但同时也证实英特尔首款10奈米制程产品将于2017年下半正式问世。   尽管英特尔在个人电脑(PC)处理器市场仍保有一定优势,然该公司必须持续推陈出新,研发更创新的新晶片产品,持续在效能、续航力及新功能方面进展。   虽然目前全球PC市场在智慧型手机及平板电脑的挤压下正持续萎缩中,但英特尔仍必须投入更多精力、致力于改良处理器的效能,以提升新款PC
  • 关键字: 英特尔  10nm  

台积电10nm 跑赢英特尔

  • 当台积电的10奈米制程顺利领先三星和英特尔,代表联发科的10奈米产品将可望跟着领先高通、展讯等竞争对手,有利于抢进品牌手机厂的旗舰机种。
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Intel 10nm工艺恐再推迟 2018年再见

  •   Intel两年升级一次工艺的Tick-Tock战略已经失效,10nm工艺之前被推迟到了2017年下半年,但这还只是初期的预测,Intel官方对10nm量产可能还要更谨慎一些,我们很可能要等到2018年才能见到10nm工艺处理器。   在昨天的2016年科技产品前瞻(1):半导体/处理器篇一文中,笔者把今年最重要的技术突破放在了半导体工艺上,因为它关系着未来的CPU、GPU及其他芯片的未来。如今16/14nm FinFET工艺已经全面量产,但在10nm及之后的节点上业界面临着很大的压力,摩尔定律能否延
  • 关键字: Intel  10nm  

ARM未来芯片路线图泄露 包含10nm处理核心

  •   有媒体日前曝光了一张ARM移动处理器架构路线图的偷拍照,当中包含了一个强大的处理器核心系列,代号Artemis,由10nm工艺制作。和目前最尖端 的14nm芯片工艺相比,10nm预计会带来更大幅度的能耗和能效比提升。搭载10nm制作工艺的设备芯片预计会在2017年问世,这也使其变得非常值得期待。        除了Artemis之外,最近发布的低功耗Cortex-A53系列也在路线图中亮相。这是一款主要面向可穿戴设备所使用的处理核心,制作工艺会使用16/14nm,甚至是10nm(等
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英特尔10nm工艺2017年才能量产

  •   外媒报道,英特尔早前规划,10nm工艺制程产品本应在2016年上半年面世,但后来被推迟到2016年第三季度。现在,英特尔的10nm工艺制程产品量产时间恐怕要推迟至2017年下半年了。   英特尔发布第二季度财报后,英特尔CEO柯再奇确认,10nm Cannonlake平台将推迟到2017年下半年,也就是足足再跳一年。   按照既定规划,10nm本应在2016年上半年面世,但后来被推迟到2016年第三季度,而在它和现有14nm Skylake平台之间增加了一个新的14nm Kaby Lake,这也是
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10nm 介绍

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