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Intel 14代酷睿或将击败苹果M2 新工艺功耗降40%

  • Intel前不久在VLSI大会上介绍了Intel的“4nm EUV”工艺,这两天媒体曝出了更多的料,HP高性能库的密度可达1.6晶体管/mm2,是目前Intel 7工艺的2倍,高于台积电的5nm工艺的1.3亿晶体管/mm2,接近台积电3nm的2.08亿晶体管/mm2。与Intel 7工艺相比,在同样的功耗下“4nm EUV”工艺频率提升21.5%,功耗降低了40%。改用EUV光刻机之后,“4nm EUV”工艺良率也高了,生产制造也更简单了,不用多次曝光了,工艺步骤减少了5%,光罩数减少了20%,也
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