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光刻胶和掩膜版，纯国产芯片生产需要克服的两个重要障碍

• 无法制造纯国产的高端芯片，是国人心中隐隐的痛！目前来说，阻碍国产高端芯片的最大瓶颈就是极紫外光刻机。但是，即使有了极紫外光刻机，也需要光刻胶和掩膜版来进行配套才行。一、光刻机不是直接刻蚀芯片正如上一个关于光刻机的视频所说，芯片生产用的光刻机，只是起到曝光的作用，并不进行刻蚀。要想用光刻机进行直接刻蚀，必然面临以下几个难题。首先，要把激光功率做到足够大，需要把硅或一些金属氧化物直接气化剥离。目前来说，波长越短的激光光源制造越困难，实现大功率越难，现有的紫外、极紫外光源难以产生足够强的激光。尤其是极紫外光源，
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