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掩膜版 文章

光刻胶和掩膜版,纯国产芯片生产需要克服的两个重要障碍

  • 无法制造纯国产的高端芯片,是国人心中隐隐的痛!目前来说,阻碍国产高端芯片的最大瓶颈就是极紫外光刻机。但是,即使有了极紫外光刻机,也需要光刻胶和掩膜版来进行配套才行。一、光刻机不是直接刻蚀芯片正如上一个关于光刻机的视频所说,芯片生产用的光刻机,只是起到曝光的作用,并不进行刻蚀。要想用光刻机进行直接刻蚀,必然面临以下几个难题。首先,要把激光功率做到足够大,需要把硅或一些金属氧化物直接气化剥离。目前来说,波长越短的激光光源制造越困难,实现大功率越难,现有的紫外、极紫外光源难以产生足够强的激光。尤其是极紫外光源,
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掩膜版介绍

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