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刻蚀 文章

中微发布第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova®

  • 中国上海,2018年3月13日电——中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)在本周举办的SEMICON China期间正式发布了第一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo nanova®,用于大批量生产存储芯片和逻辑芯片的前道工序。该设备采用了中微具有自主知识产权的电感耦合等离子体刻蚀技术和许多创新的功能,以帮助客户达到芯片制造工艺的关键指标,例如关键尺寸(CD)刻蚀的精准度、均匀性和重复性等。其创新的设计包括:完全对称的反应腔,超高的分子泵抽速;独特的低电容耦合线圈设计和多区细分温控静电吸盘(E
  • 关键字: 中微  半导体  刻蚀  

半导体制造的工艺与材料发展趋势

  • 应用将持续驱动芯片业的发展。摩尔定律将继续演进,但形式正发生变化,从注重特征尺寸的缩小,正转变到同时关注材料和结构创新。预计中国半导体市场10年内翻番,将带来半导体制造的兴盛。为了迎接10nm以下的挑战,应用材料公司近期推出了三款新产品。
  • 关键字: 晶圆  材料工程  设备  刻蚀  电子束  201612  

中微公司将发布新一代等离子刻蚀设备

  • 今年IC China(一年一度在上海举办的业内知名半导体展会和论坛)展会期间,先进的设备制造商 -- 中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微公司”),将于本周三在上海世博展览馆,就其设计创新、技术领先的新一代刻蚀设备产品举办新闻发布会。
  • 关键字: 中微公司  刻蚀  

Schmid 选择性发射极刻蚀机继续成功之道

  •   Schmid集团的选择性发射极技术通过自身出色的运行情况证明其为市场上最有效的工艺技术。在竞争更高效率的战争中,更多的电池生产商依赖于湿化学工艺;由Schmid湿法机器订单越来越多可见一斑。无论是扩展生产线还是升级现有生产线,Schmid的选择性发射极技术继续其成功之道。Schmid选择性发射极刻蚀机最新订单是八月中旬,来自一家中国的主要生产商。   
  • 关键字: Schmid  刻蚀  

IC设备国产化多点突破二手市场寻求整合

  •   “工欲善其事,必先利其器。”集成电路产业的发展离不开装备制造业的支撑,而装备业的发展水平也是衡量一个国家集成电路产业总体水平的重要标准。近年来,我国集成电路装备业取得了长足的进步,12英寸设备在多个工序实现国产化。但由于8英寸、12英寸集成电路生产线在我国仍有很大的发展空间,这也给国外的二手设备提供了用武之地,同时,也给从事设备翻新的企业提供了发展机遇。   12英寸国产设备进展显著   ●多种核心装备实现国产化   ●12英寸65纳米是下阶段重点   一条标准的集成电
  • 关键字: 半导体设备  芯片制造  光刻  刻蚀  

氟橡胶密封的刻蚀机理和使用特性

  • 半导体工业中的等离子加工对于氟橡胶真空密封是一个富有挑战性的环境。在高温和等离子条件下实现的密封能力...
  • 关键字: 氟橡胶  刻蚀  

基于MEMS的OXC:解决可靠性差距

应用材料公司推出Centura Carina Etch系统克服高K介电常数

  • 近日,应用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系统用于世界上最先进晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术,它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓,是目前唯一具有上述能力并可以用于生产的解决方案。应用材料公司的Carina技术具有独一无二的表现,它能达到毫不妥协的关键刻蚀参数要求:平坦垂直,侧边轮廓不含任何硅材料凹陷,同时没有任何副产品残留物。 应用材料公司资深副总裁、硅系统业务
  • 关键字: 测试  测量  应用材料  晶体管  刻蚀  IC  制造制程  
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