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光刻工艺 文章

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光刻工艺介绍

光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺在此之后,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。 光刻工艺也被称为大家熟知的Photomasking, masking, photolithography, 或micr 光刻 olithography。在晶圆的制造过程中,晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属 [ 查看详细 ]

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