Mentor对台积电Reference Flow 10.0中的工具和技术进行扩展

　　Reference Flow 10.0还包括了Questa®和0-In®平台的高级功能验证特性，用于复杂IC设计的增强型验证。

• 基于标准的解决方案，支持IEEE标准、1801-2009™ UPF和IEEE标准、1800-2005™ SystemVerilog。
• 集成低功耗仿真和形式化功能，在设计流程早期验证高级功耗管理电路。
• 跨电路复杂时钟域静态和动态验证，保证标准和低功耗模式下能正常工作。

　　“台积电Reference Flow 10.0中完整的Mentor设计到硅片流程允许我们一起帮助共同的客户解决在28nm所面临的最大挑战，包括低功耗设计和验证、大规模SoC实施、工艺多变性、经济型测试和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines说。“行业在向28nm工艺过渡时也提出了新的技术挑战，Mentor为此有自己独到的解决方案。我们与台积电密切合作，利用工具消除设计师和代工厂间的距离，并同时帮助客户在提高产品性能和可靠性的同时缩短产品的上市时间。”