打破技术壁垒 加快ITO靶材产业化进程

　　自主开发ITO靶材意义重大

　　目前工业ITO靶材都是以ITO粉末为原料经高温烧结而成，其烧结成型方法主要有3种：热压法HP、冷等静压法CIP、高温气氛烧结法MMP。

　　国内目前ITO靶材的生产，多采用高成本的热等静压工艺。该技术工艺生产的靶材，一旦产品规格超过200mm×200mm，就会出现断裂、密度低等问题，而且在使用过程中，经常出现靶材中毒现象。这也是我国靶材行业落后于先进国家的主要原因之一。

　　自主开发生产ITO靶材对于促进我国平板显示产业发展意义重大，主要表现在以下几方面：

　　第一，打破技术壁垒，让高端靶材不再依赖进口。国外对ITO靶材生产技术进行严密封锁使我国对这一关键的信息功能材料的制造技术严重滞后，致使ITO靶材不得不长期依赖进口，严重阻碍了我国信息产业链的建立，限制了我国信息产业向高端发展。因此，必须优先发展具有我国自主知识产权的ITO靶材制备技术，加快ITO产业化建设，促进高端ITO靶材国产化进程。

　　第二，有利于资源保护，提高铟产品高附加值。突破限制我国平板显示器产业链健康发展的瓶颈制约，对提高我国信息产业的核心竞争力，开发对稀缺金属原材料的深加工具有重大的战略意义和深远历史意义。

　　第三，填补我国ITO靶材在中、高端平板显示器制造领域应用的空白。

　　第四，有利于ITO靶材平板生产工艺研究开发与人才培养。

　　第五，有利于提高国内ITO靶材原料加工、镀膜等整体技术水平。

　　目前全球信息产业快速发展，我们应抓住ITO材料市场需求猛增的大好时机，加速ITO靶材的研发和产业化进程，打破发达国家设置的技术壁垒，促进ITO靶材国产化，改变目前ITO靶材主要依赖进口的现状，实现我国成为光电产业领先国家的目标。