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业界第一个商用TMBS整流器与传统整流器电子应用的对比(08-100)

—— 业界第一个商用TMBS整流器与传统整流器电子应用的对比
作者:Max Chen、Henry Kuo、L. C. Kao 、PJ Kung Vishay台湾有限公司通用半导体功率二极管部门研发部时间:2009-03-05来源:电子产品世界收藏

 

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/92119.htm

  图2 沿半导体漂移区的与平面肖特基器件电场曲线的比较。左侧的X轴是硅表面,这里形成了肖特基势垒

  Vishay发布的所有100 V、120 V、150 V和200 V 都采用了浅沟道(最深2.1 um)和薄氧化物厚度(最厚0.3 um),它可以大幅度缩短沟道蚀刻制造所需的处理周期时间,因此可以提高制造工艺的吞吐量。

  器件特征描述

  本部分将仅涉及100 V和200 V 的器件特征描述,但是其结论可适用于其他电压的TMBS器件。

  40 A/100 V TMBS的特征

  与传统60 A相比,40 A/100 V TMBS器件显示出了改善的正向压降性能,如图3a和3b所示。



  图3a和3b TMBS和传统平面肖特基整流器的正向电压比较

 



关键词: TMBS 整流器

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