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SIPLACE质量保证 在2007年Nepcon上海大获成功

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作者:时间:2007-05-15来源:EEPW收藏
Nepcon上海2007于光大会展中心盛装开幕。此次大会云集了来自全球 22 个国家表面贴装行业的逾 650 家参展商,共吸引了 14800 名高层次参观者。

成功地展示了其全新的  D4、 D2+D1+D1s 生产线以及  D3 平台。SIPLACE D 系列采用了创新设计,包括具备高端技术的光学成像系统、数字化处理、高精度贴片处理、以及最高水平的质量表现,旨在提供能够满足中国各行各业所需的解决方案。此外,还展示了 SIPLACE 创新特性,包括数字成像系统、软件和服务:整线效率(OLE)与翻新设备(POE)。

因此,全新贴装系统在本次展会上吸引了大量眼球。许多参观者都被 D4、D3 和 D2-D1-D1s 系列产品的现场展示所折服。 

全新 SIPLACE D 系列取得了巨大的成功,为此被 SMT 的国际合作伙伴 SMT China 授予了“远见奖(VISION Award)”,并被 EM Asia 授予了“创新奖(Innovation Award)”。全新 SIPLACE 平台的诸多创新给评委们留下了尤其深刻的印象,例如数字成像系统、线性驱动、以及可为制造流程大量节省时间和成本的一流软件。 


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