华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机：迈向14nm

　　中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样来自ASML，不过是193nm沉浸式，用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，7200万美元一台。

　　据集微网报道， 5月21日上午，在上海浦东新区康桥工业园南区，华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目(“华虹六厂”)实现首台工艺设备光刻机搬入。

　　这台光刻机的型号是NXT 1980Di，依然是荷兰ASML提供，后者官方显示，这是一台193nm双级沉浸式光刻机，用于10nm级(14～20nm)晶圆生产，它也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。

　　华力微电子官网资料显示，华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线，设计月产能4万片，工艺技术从28nm起步，最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力。

　　另外，根据赛迪顾问的统计，按照销售额，上海华虹位列2017年国内十大集成电路制造企业第五位。