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TSMC37纳米及以下工艺案终结

—— TSMC与请求USITC与STC.UNM均已向法院提出终止调查申请
作者:时间:2010-11-16来源:电子产品世界收藏

  今(16)宣布,就美国国际贸易委员会(USITC)针对被指控28纳米工艺技术有侵权之虞的调查案,得以有利于的方式终结。TSMC与请求USITC调查此案的美国新墨西哥大学专利授权机构STC.UNM均已向法院提出终止调查申请,内容请参阅USITC网站­--案件编号:337-TA-729、标题:In the Matter of Certain Semiconductor Products Made by Advanced Lithography Techniques and Products Containing Same。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/114595.htm

  这项调查内容指称TSMC及以下的半导体工艺侵害编号第6,042,998号 (“998”专利)的美国专利,但TSMC否认这项侵权指控。

  TSMC资深副总经理暨法务长杜东佑博士表示:「虽然TSMC对于此次STC.UNM这种基于无效专利而提出的案件感到遗憾,但仍欣见本案终能解决」。



关键词: TSMC 37纳米

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